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更新時間：2026-03-02
廠商性質：經(jīng)銷商
訪 問 量 ：737
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瑞士VAT高真空蝶形控制閥61334-KEAE-0001
型號：61334-KEAE-0001
類型：高真空蝶形控制閥（氣動驅動，金屬密封）
品牌：VAT Group（瑞士 真空閥門制造商）
適用領域：半導體、光伏、真空鍍膜、科研設備等
| 參數(shù) | 規(guī)格 |
|---|---|
| 真空范圍 | 10?? mbar 至 大氣壓（超高真空兼容） |
| 漏率 | <1×10?? mbar·l/s（金屬密封） |
| 閥體材質 | 316L不銹鋼（電解拋光，Ra ≤ 0.8 μm） |
| 密封材質 | 全金屬密封（金包覆不銹鋼，耐高溫烘烤） |
| 驅動方式 | 氣動執(zhí)行（單/雙作用可選） |
| 響應時間 | <100 ms（全開至全關） |
| 溫度范圍 | -20°C 至 +150°C（標準），可選高溫版（+250°C） |
| 法蘭標準 | ISO-KF、CF 或定制（SEMI標準兼容） |
| 控制信號 | 可選4-20mA / 0-10V 反饋，或數(shù)字通信（RS485） |
? 超高真空性能
適用于XHV（10?? mbar）環(huán)境，滿足半導體ALD、離子注入等嚴苛工藝需求。
? 耐腐蝕設計
金屬密封（可選PTFE增強涂層），兼容Cl?、HBr、WF?等腐蝕性氣體。
? 快速響應
<100 ms開關速度，適用于動態(tài)氣體控制（如CVD脈沖沉積）。
? 長壽命
機械壽命 >10?次循環(huán)，維護周期長，降低設備停機時間。
| 行業(yè) | 設備/工藝 | 作用 |
|---|---|---|
| 半導體 | 刻蝕（Etch）、ALD/CVD | 高真空隔離，氣體流量精準控制 |
| 光伏 | PECVD、濺射鍍膜 | 快速抽真空，維持腔室壓力穩(wěn)定 |
| 科研 | 同步輻射、電子顯微鏡 | 超高真空環(huán)境下的氣流調節(jié) |
法蘭對接：使用無應力安裝工具，避免閥體變形（扭矩≤10 Nm）。
氣路連接：確保氣源潔凈（推薦0.1 μm過濾器）。
常規(guī)檢查：每3個月檢查密封面磨損情況。
深度維護：每2年或50萬次循環(huán)后更換密封組件（原廠維修包可選）。
Q1：能否替代61332-KEAF-0001？
→ 可以，但需確認密封材質是否匹配（KEAF為金屬密封，其他型號可能不同）。
Q2：是否支持EUV光刻機應用？
→ 支持，但需選配超潔凈版本（低顆粒釋放，需特殊訂貨）。
Q3：最小起訂量（MOQ）？
→ 原廠1臺起訂
瑞士VAT高真空蝶形控制閥61334-KEAE-0001
商品編號61336-PAAE-0001
商品編號61336-PEGF-0001
商品編號61338-PAGX-0001
商品編號61336-PECX-0001
商品編號661334-KACX-000
商品編號61340-PEGF-0001
商品編號61340-PEGQ-0001
商品編號61338-PEAK-0001
商品編號61344-PEAE-0001
商品編號61328-KEAX-0001
商品編號61332-KEAX-0001
商品編號61328-KEGF-0001
商品編號61348-PECK-0001
商品編號61346-PEGX-0001
商品編號61344-PACX-0001
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